Популярные Нано Технологии

Поиск предприятий

Страна
Регион России

Каталог

Алмаз ТМ - 001 Вакуумная установка для осаждения пленок и нанотрубок

Поставщик - Научно-Исследовательский Институт Точного Машиностроения (НИИТМ) , ОАО

Цена с НДС - дог.

Валюта - руб

Вакуумная установка для осаждения пленок и нанотрубок из газовой фазы в реакторе с плазменной активацией.

Назначение и применение
Универсальная PECVD установка «Алмаз-ТМ 001» предназначенная для реализации широкого класса нанотехнологических процессов на пластинах диаметром до 100 мм, в том числе для:
- низкотемпературного выращивания ориентированных углеродных нанотрубок и нановолокон контролируемой толщины и длины;
- осаждение поликристаллических алмазных и алмазоподобных пленок (включая легированные) на кремниевые, сапфировые, поликоровые и другие подложки.
- осаждение широкого круга материалов для экстремальной электроники.

Особенности:
- В установке использован оригинальный СВЧ (2.45 ГГц) плазмохимический реактор с несколькими зонами разрядов, комбинированный с ICP (частота 13.56 МГц) и DC источниками плазмы. Реактор позволяет проводить технологические процессы в широком диапазоне рабочих давлений в более чем 10 режимах возбуждения плазмы (ECR, ICP, DC и др.).
- Комплекс автоматизирован, обеспечивает прецизионное регулирование параметрами процессов и построен по модульному принципу, что позволяет Заказчику выбрать нужную ему конфигурацию.
- Установка содержит:
-- Реактор металлический водоохлаждаемый с кварцевой футеровкой и шлюзовой загрузкой.
--Графитовый подложкодержатель с нагревом до 950°С.
-- Вакуумную систему с форвакуумными и турбомолекулярным насосами.
-- 7-ми канальную газовую систему.
--СВЧ и ВЧ генераторы, источник ПТ.
-- 2-х контурную систему гидроохлаждения и систему воздушного охлаждения.
-- Двухуровневую систему безопасности

Технические характеристики

Авторизация

логин
пароль
Регистрация Забыли пароль?

Реклама нефтегаз