Популярные Нано Технологии

Поиск предприятий

Страна
Регион России

Каталог

Алмаз ТМ - 003 Вакуумная установка PECVD-процессов для нанотехнологий

Поставщик - Научно-Исследовательский Институт Точного Машиностроения (НИИТМ) , ОАО

Цена с НДС - дог.

Валюта - руб

Универсальная вакуумная установка PECVD-процессов «Алмаз-ТМ 003» предназначена для реализации широкого класса нанотехнологических процессов и создания наноприборов на основе наноуглеродных слоёв:
- вертикально и горизонтально ориентированных углеродных нанотрубок контролируемой толщины и длины;
- поликристаллических алмазных и наноалмазных пленок, в том числе легированных, на кремниевые, сапфировые, поликоровые и другие подложки.

Реализуемые процессы:
- селективное осаждение слоёв;
- плазмо-термическое формирование каталитических кластеров (Co, Fe, Ni и др.) из тонких плёнок;
- легирование слоёв;
- осаждение диэлектрических и проводящих слоёв.

Состав:
- технологический модуль (реактор, универсальный вакуумный базовый модуль);
- стойка управления и энергетического обеспечения.

Особенности:
- Используется оригинальный СВЧ (2,45 ГГц) плазмохимический реактор с несколькими зонами разрядов, комбинированный с ICP (частота 13.56 МГц) и DC источниками плазмы. Реактор позволяет проводить технологические процессы в широком диапазоне рабочих давлений в более чем 10 режимах возбуждения плазмы ( ECR, ICP, DC и др.).
- Установка автоматизирована и обеспечивает прецизионное регулирование параметрами процессов.
- Применён бесконтактный (инфракрасный) метод измерения температуры подложки;
- Резистивный нагреватель с подложкодержателем могут вертикально перемещаться.
- Резистивный нагреватель и ВЧ-индуктор внутри реакционного объёма.
- Модульный принцип построения позволяет выбрать нужную конфигурацию установки.

Технические характеристики

Авторизация

логин
пароль
Регистрация Забыли пароль?

Реклама нефтегаз