Популярные Нано Технологии

Поиск предприятий

Страна
Регион России

Каталог

Нанотехнологии Popnano RU/Каталог/Продукция/кристаллография и кристаллохимия наноструктурных веществ /новые классы металлических, полимерных, керамических и композиционных нановеществ /совместимость наноматериалов /свойства веществ при переходе к наноструктурным состояниям /нанотехнологии для обработки материалов /нанотехнологии создания наноструктур, нанотрубок и покрытий /технологии нанесения пленок и покрытий, наноструктурирования материалов /нанотехнологии, обеспечивающие синтез материалов /технологии применения углеродных нанотрубок /нанобиосенсорные терапевтические технологии /нанотехнологии создания энергетических установок /нанотехнологии для защиты от подделки документов и валюты /нанотехнологии для сельского хозяйства /Продукция строительного, дорожного и коммунального машиностроения/Строительное оборудование/высокопрочный крепеж /Резистометрические газовые сенсоры на основе нанокристаллических материалов /Сверхчувствительные магнитные детекторы на основе SQUID /

Интегральные схемы с однослойной топологией

Поставщик - НИИФП им Лукина

Цена с НДС - дог.

Валюта - руб

Впервые - всего одна литография для изготовления интегральной схемы.
Назначение:
интегральные схемы на основе технологии с одной операцией литографии - однолитографической технологии.
Переход к однолитографической технологии ведет к ее коренным изменениям. Однократность переноса топологической информации на обрабатываемую пластину позволяет минимизировать помехи и все последующие технологические операции проводить в замкнутом контролируемом объеме. В результате достигаются следующие цели:
- максимальная стабилизация технологии;
- воспроизводимость предельно минимальных размеров;
- минимизация привносимых дефектов.
Принцип:
кодирование основных элементов ИС (активных приборов и элементов межсоединений) элементами плоских прямоугольных графов. Пример однослойной топологии двухвходового вентиля:
Свойства:
Однократный перенос топологического рисунка на пластину с маской. Сохранение рисунка на маске в течение всего технологического маршрута. Возможность переноса рисунка со схемы на пластину непосредственно. Возможность перехода к схемам с воздушной (вакуумной) изоляцией.
Область применения: Микросистемы, наноэлектроника, биомолекулярная электроника.
Состояние разработки: Выполняется моделирование технологии.

Авторизация

логин
пароль
Регистрация Забыли пароль?

Реклама нефтегаз