Популярные Нано Технологии

Поиск предприятий

Страна
Регион России

Каталог

Программное обеспечение для управления сенсором EpiTT

Поставщик - Сигм плюс, ООО

Цена с НДС - дог.

Валюта - руб

Программное обеспечение для управления сенсором EpiTT разработано так, чтобы соответствовать промышленным нуждам в условиях массового производства. Оно предназначено для круглосуточной работы и может использоваться оператором. Все важные операции (начало или конец измерений, анализ измеренных данных в реальном времени) могут контролироваться дистанционно. Для опытных пользователей программа может работать в полнофункциональном режиме, включающем больше функций и возможностей.

Программное обеспечение EpiTT может подключаться по протоколу TCP/IP к другим компьютерам (например, к компьютеру, контролирующему ростовой процесс). Основанный на ASCII протокол позволяет обмениваться данными с удаленным компьютером в реальном времени. Этот протокол может использоваться для удаленного управления измерениями EpiTT с помощью рецепта эпитаксиального роста. Кроме того, в качестве альтернативы доступен простой аппаратный интерфейс.

Внешний модуль "EpiTT-inspect" используется для отображения и анализа данных после окончания роста. Он может быть установлен на офисный компьютер. Данные легко экспортируются в любое приложение (Excel, Origin). С помощью модуля ростового анализа можно рассчитать скорость роста и состав слоев.

Growth analysis
Модуль ростового анализа встроен в оба программных продукта EpiSense и EpiTT. Он предназначен для различного рода анализа измеренных данных, осуществляемого нескольким кликами мыши.

Его главная задача – определение скорости роста методом наименьших квадратов (МНК). Модуль оснащен полной базой данных по полупроводниковым материалам и часто используемым материалам подложек (в том числе InP, GaAs, SiC, сапфир, Si, Ge). В этой базе содержатся спектроскопические данные с учетом температурной зависимости. При одном цикле расчетов проводится определение показателя преломления, поглощения и скорости роста (аппроксимация по трем параметрам). Если какой-либо из этих параметров известен, его можно исключить из вычислений. Результаты и данные могут легко экспор-тироваться в другие приложения в ASCII формате.

При работе с несколькими подложками анализ может проводиться для любой выбранной пластины. В специальном «групповом» режиме, одинаковые вычисления для всех подложек запускаются одновременно одним кликом мыши.

Для повторения идентичной процедуры расчетов с разными данными можно создавать «профиль анализа», содержащий полную информацию по всем параметрам, определяющими путь автоматического анализа данных для нескольких подложек.

Расчеты в модуле ростового анализа проводятся с помощью многослойной системы моделирования AnalysR, охватывающей все оптические применения от простых систем типа эпитаксиальный слой - подложка до таких сложных многослойных структур, как VCSEL, от тонких слоев нанометровой толщины до толстых подложек с толщинами в сотни микрометров, от изотропных до анизотропных материалов, от таких стандартных систем материалов, как GaAs или InP, до самых передовых материалов с температурной и стехиометрической зависимостями.

Авторизация

логин
пароль
Регистрация Забыли пароль?

Реклама нефтегаз