ПОПУЛЯРНЫЕ НАНОТЕХНОЛОГИИ

Поиск предприятий

Страна
Регион России

Каталог

Плазма ТМ - 001 Универсальная установка реактивно-ионного травления с источником высокоплотной плазмы

Поставщик - Научно-Исследовательский Институт Точного Машиностроения (НИИТМ) , ОАО

Цена с НДС - дог.

Валюта - руб

Назначение
Универсальная установка реактивно-ионного травления с источником высокоплотной плазмы «Плазма ТМ - 001» предназначена для высокоскоростного реактивно-ионного травления широкого спектра материалов, в том числе кремния, кварца, стекла “пирекс”.

Особенности и состав
- ВЧ-реактор с источником высокоплотной индукционно связанной плазмы.
- Два высокочастотных генератора.
- Гелиевое охлаждение подложек.
- Многоканальная (2 – 6) газовая система.
- Шлюзовая система поштучной загрузки-выгрузки подложек.
- Вакуумная система с турбомолекулярным и форвакуумным насосами.
- Система безопасности

Технические характеристики

Авторизация

логин
пароль
Регистрация Забыли пароль?