ПОПУЛЯРНЫЕ НАНОТЕХНОЛОГИИ

Поиск предприятий

Страна
Регион России

Каталог

Вакуумная установка плазмохимического осаждения наноструктур "НаноАлмаз"

Поставщик - Научно-Исследовательский Институт Точного Машиностроения (НИИТМ) , ОАО

Цена с НДС - дог.

Валюта - руб

Назначение и применение:
осаждение материалов в вакуумном реакторе из газовой фазы с плазменной активацией для (PECVD) формирования пленочных структур и нанотрубок.

Оснащение:
- рабочая камера с реактором ВЧ и/или СВЧ плазмы (ICP и ECR) для осаждения пленок на подложки диаметром до 150 мм.
- шлюзовая система поштучной загрузки-выгрузки подложек
- рабочий стол с нагревателем до 1000 С и подачей напряжения смещения на подложку.
- многоканальная (2-6 каналов) газовая система.
- безмаслянная система откачки.
- микропроцессорная система управления.
- встраивается в "чистую" комнату.

Технические характеристики

Авторизация

логин
пароль
Регистрация Забыли пароль?